- 名校教學(xué)模式，多名外教多對(duì)一輔導(dǎo)
- 一所專注于“作品集培訓(xùn)，藝術(shù)留學(xué)規(guī)劃”的專業(yè)藝術(shù)教育培訓(xùn)機(jī)
- 平面設(shè)計(jì)_服裝設(shè)計(jì)_攝影_動(dòng)畫設(shè)計(jì)等作品集培訓(xùn)
400-688-0112
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坐落于密歇根湖畔的芝加哥藝術(shù)學(xué)院（SAIC），將城市肌理與藝術(shù)教育完美融合。其教學(xué)區(qū)與博物館的共生模式，創(chuàng)造了獨(dú)特的學(xué)術(shù)氛圍，每年吸引全球超過(guò)3,500名藝術(shù)學(xué)子在此深造。
| 項(xiàng)目 | 本科要求 | 研究生要求 |
|---|---|---|
| 語(yǔ)言成績(jī) | 雅思6.5/托福82 | 雅思6.5/托福80 |
| 作品集形式 | 視覺(jué)作品+2000字論文 | 5個(gè)項(xiàng)目組合（圖像/影像） |
| 特殊材料 | SAT成績(jī)（非必需） | GRE成績(jī)（建議提交） |
作品集提交需特別注意時(shí)間節(jié)點(diǎn)，美國(guó)中部時(shí)間1月16日晚23:59為最終截止期限。學(xué)術(shù)論文部分接受課程作業(yè)節(jié)選，但需展現(xiàn)批判性思維深度。
影像類作品時(shí)長(zhǎng)需控制在10分鐘以內(nèi)，混合媒介項(xiàng)目需說(shuō)明創(chuàng)作理念。非傳統(tǒng)背景申請(qǐng)者可提交視覺(jué)論文替代作品集，重點(diǎn)展現(xiàn)思維獨(dú)特性。
重要提示：面試環(huán)節(jié)將重點(diǎn)考察申請(qǐng)者的專業(yè)視野，建議提前準(zhǔn)備行業(yè)趨勢(shì)分析材料。
